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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司


  • 介電薄膜沉積專用電子束蒸鍍?cè)O(shè)備

    詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:SiO2、AlN、Al2O3、介電膜、刻蝕、電子槍、離子槍、氧化鋁、氮化鋁、二氧化硅型號(hào):MEB400S

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-15 在線留言

  • 金剛石預(yù)金屬化專用子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:金剛石、金屬化、釬焊、電子束蒸鍍型號(hào):MEB400S

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-15 在線留言

  • 熱障層制備/紅外波導(dǎo) 專用電子束蒸鍍儀

    詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:熱障層、紅外波導(dǎo)、lift-off工藝、HMET晶體管、PHMET晶體管、歐姆接觸、肖特接觸、磁性材料、MEMS封裝、約瑟夫森電路型號(hào):MEB550S

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-15 在線留言

  • 金屬薄膜制備專用電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:熱障層、紅外波導(dǎo)、lift-off工藝、HMET晶體管、PHMET晶體管、歐姆接觸、肖特接觸、磁性材料、MEMS封裝、約瑟夫森電路金屬膜、Ni、Pt、A...

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-15 在線留言

  • 電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)用于金屬薄膜沉積

    詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:熱障層、紅外波導(dǎo)、lift-off工藝、HMET晶體管、PHMET晶體管、歐姆接觸、肖特接觸、磁性材料、MEMS封裝、約瑟夫森電路用于金屬薄膜沉積、金屬...

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-15 在線留言

  • 金屬薄膜制備專用熱蒸鍍鍍膜系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 型號(hào):MEB450S

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-15 在線留言

  • 提供金屬膜/半導(dǎo)體膜/絕緣膜鍍膜服務(wù)

    詳細(xì)摘要: 我們采用以下手段,可以制備各種膜!電子束蒸鍍(E-beamevaporation):-可以蒸鍍各種金屬、非金屬材料磁控濺射鍍膜(MagnetronSputter...

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-14 在線留言

  • 多陰極磁控濺射鍍膜儀 (confocal sputtering system)

    詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:金屬薄膜,氮化鋁、壓電薄膜、AlN、Si3N4薄膜、MEMSTiN薄膜,抗腐蝕硬質(zhì)膜,半導(dǎo)體薄膜,氧化物絕緣層型號(hào):MP450S,產(chǎn)地:歐洲,應(yīng)用:沉積...

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-14 在線留言

  • 多靶反應(yīng)濺射鍍膜系統(tǒng)(用于單層膜/多層膜制備 )

    詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:單層膜、多層膜、半導(dǎo)體、光電子學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、MEMS、微流體技術(shù)、磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜、共濺射連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、Si...

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  • 直流磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:鍍膜、金屬膜、Al,Ti,Cr,Ni,Cu,Au,Nb,W,Pd,Pt,Mo可在導(dǎo)體或絕緣體上濺射任何薄膜氣路:Ar氣路配搭MFC陰極:3個(gè)4英寸直流磁...

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  • SourceLAB 激光等離子體實(shí)驗(yàn)專用儀器

    詳細(xì)摘要: SL-ALC全自動(dòng)長程可調(diào)氣室(用于激光等離子體加速器)資料下載:SL-ALC介紹1;SL-ALC介紹2SL-ALC-HI是一款全自動(dòng)長度可調(diào)氣室,設(shè)計(jì)用于那些...

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  • 磁控濺射用于單層膜/多層膜/磁性膜制備

    詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:單層膜、多層膜、磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型號(hào):MP900S產(chǎn)地:歐洲...

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  • 多靶共焦濺射鍍膜設(shè)備(用于半導(dǎo)體膜、介電膜制備)

    詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:單層膜、多層膜、半導(dǎo)體、光電子學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、MEMS、微流體技術(shù)、磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜、共濺射連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、Si...

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-14 在線留言

  • 多腔體磁控濺射團(tuán)簇系統(tǒng)(用于金屬和氧化物)

    詳細(xì)摘要:

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  • 12英寸大面積專用離子減薄儀(MU700)

    詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:RIE、RIBE、反應(yīng)離子束刻蝕、CAIEB、化學(xué)輔助離子束刻蝕、過渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT型號(hào):MU7...

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-14 在線留言

  • 提供電子束曝光/紫外曝光/深硅刻蝕/等離子刻蝕及測(cè)量服務(wù)

    詳細(xì)摘要: 我公司能夠提供下列服務(wù):電子束曝光:制備光刻膠圖像作為掩膜,最小可以制備線寬為7nm的圖像

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-14 在線留言

  • 超高功率微波/RF輸出窗口-用于磁約束聚變

    詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:超高功率、輸出窗口、RF、MW、損耗因子大面積金剛石窗口用于激光、微波、無線電RF及太赫茲輸出窗口,主要指標(biāo)如下:介電常數(shù):5.7

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-14 在線留言

  • 激光等離子體軟X射線顯微成像

    詳細(xì)摘要: 目前為止,主要通過同步輻射產(chǎn)生的X射線才足夠明亮達(dá),實(shí)現(xiàn)軟X-ray顯微成像,但是同步輻射裝置占地足球場(chǎng)大小,價(jià)格及其昂貴,我們提供基于真空中激光致等離子體技術(shù)...

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-13 在線留言

  • 高功率激光實(shí)驗(yàn)專用靶(薄箔/3D靶)/相位片/AR Coating

    詳細(xì)摘要: 高功率激光實(shí)驗(yàn)專用靶/相位片/ARCoating1)提供幾個(gè)nm-um薄箔靶,例如Al,Au,Cu,Ta,V,塑料,多層膜,合金靶等

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-13 在線留言

  • 超快氣體閥(100Bar)

    詳細(xì)摘要: 常規(guī)的氣體閥門開/關(guān)時(shí)間數(shù)毫秒(ms),而超快氣體閥開/關(guān)時(shí)間分別有一個(gè)案例說明:以前LBNL用其他供應(yīng)商的氣體閥(真空腔室用11000L/s的分子泵抽氣),重...

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2022-10-13 在線留言

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