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上海艾祺科技有限公司
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更新時間:2023-02-08 10:32:54瀏覽次數(shù):218次
聯(lián)系我時,請告知來自 化工機械設備網(wǎng)MicroSam是一種位于Ex-d 外殼中的小型過程氣相色譜儀(GC)。通過微系統(tǒng)技術(硅片技術)的統(tǒng)一使用,所有分析組件均集中在最小可能區(qū)域中。該設計可顯著實現(xiàn)靠近相關過程的分布式安裝。
概述
MicroSam是一種位于Ex-d 外殼中的小型過程氣相色譜儀(GC)。通過微系統(tǒng)技術(硅片技術)的統(tǒng)一使用,所有分析組件均集中在最小可能區(qū)域中。該設計可顯著實現(xiàn)靠近相關過程的分布式安裝
優(yōu)勢
· 分布式現(xiàn)場安裝可降低投資成本,并打開新的應用領域,例如:
· 安裝不可能在分析儀傘范圍內進行安裝的生產裝置區(qū)域中
· 安裝在無擴展基礎設施的遠程位置
· 通過聯(lián)機測量簡化實驗室分析。
· 分析機柜中的低空間要求降低了投資成本。
· 低維護需求和氣體/能源消耗降低了成本
· 高分辨率毛細管柱可實現(xiàn)快速分析。
· 實時注入允許代表性的試樣注入。
· 使用電子壓力控制器實現(xiàn)了免維護、無閥分離柱開關
· 使用多個微熱導率檢測器(多檢測器)能夠提供準確的測量結果和確認。
· 適合維護和保護數(shù)據(jù)傳輸?shù)耐ㄓ眠B網(wǎng)可能性
· 通過基于Windows的軟件和以太網(wǎng)通信的實現(xiàn)遠程監(jiān)控。
· 通過更換模塊的方式簡化了維修
應用
化工行業(yè)
· 分析 1.2 二氯乙烷 (EDC) 中的乙烯,用于過程控制
· 過程控制用乙炔中氮氣的快速測定
· 裂化裝置開始產物(LPG)的烴分析
· 油輪卸貨期間乙撐氧的安全測量
· 乙撐氧中的多組分分析
· 試驗工場中甲醇、水和二甲醚的分析
· 冷卻劑監(jiān)控:氯代甲烷痕量監(jiān)控
· 分析氯堿廠純氣中的氮氣和氫氣
石油和天然氣
· 循環(huán)氣體和其他工藝氣體中的氫氣分析
· 燃燒氣體中惰性氣體和低沸石蠟的分析
· 重整裝置/鉑重整裝置中氫氣和低沸烴的分析
· 裂化裝置乙炔中雜質的痕量分析
· 裂化裝置乙烯中乙烷的分析
· 電廠質量控制排放氣體發(fā)熱值的測量
· 乙烯裝置甲烷中乙烯的分析
· 蒸汽裂化裝置C2分餾塔中丙二烯和丙炔的分析
· 乙烯裝置/減粘裂化爐中低沸烴的分析
· 火炬排放氣體的分析
· 環(huán)氧丙烷裝置中氣體回路的分析
· 分析 LDPE
(低密度聚乙烯)廠裂解氣中的一氧化碳
· 試驗工場煉廠氣的分析
· 天然氣制備廠發(fā)熱值分析
· 鋼鐵
· 高爐排放氣體分析。
制藥工業(yè)
· 發(fā)酵過程中 O2、N2、CO2和水的分析
· 真空干燥裝置氮氣中乙醇的分析
· 金屬材料、集料、水泥
· 惰性氣體和烴礦山氣體的分析
設計
外殼
· Ex d 型標準
· 加熱可調節(jié)從 60 到 165°C(等溫)
· 分散安裝在取樣點附近
分析模塊
緊湊分析模塊含有色譜儀的所有功能組件。MicroSam可與以下各項一起工作:
· 實時注入
· 基于微芯片的無閥實時切換
· 標準化分析模塊
· 通過在允許的最小區(qū)域(例如,在所有色譜柱/吹掃輸出和注射口上)中使用多達 8 個微型熱導檢測器 (TCD),實現(xiàn)多功能檢測
功能
實時注入
MicroSam配有一個兩段式注入系統(tǒng)。利用一個微型注入閥,首先讓規(guī)定數(shù)量的試樣達到載氣壓力。這消除了采用常規(guī)系統(tǒng)所存在定量中的壓力依賴型誤差。在第二個階段中,通過無閥門的微型注射系統(tǒng)(即時定量給料)將樣品輸送到色譜柱。其結果是"有效"注入。
注入體積可按時間控制進行變化,并與色譜柱要求精確匹配。
無閥實時柱切換
由于常規(guī)閥門的高死體積,因此,只有無閥型可考慮用于小型系統(tǒng)。在此種情況下,利用色譜柱設置相應位置處幾個電子壓力調節(jié)器的差異產生可造成流動方向的變化。(該系統(tǒng)根據(jù)惠斯登(Wheatstone)原理進行工作,但以氣動方式進行。)然后,可實施功能"切割"和"反吹",無死體積。
色譜柱系統(tǒng)
色譜柱系統(tǒng)由兩個或三個按順序連接的毛細管柱組成。Micro TCD或微型實時電路按順序安裝在("內嵌") 單獨色譜柱的上游和下游。三個電子壓力調節(jié)器為色譜柱提供載氣,并執(zhí)行切換功能(注入、反吹和切割)。
通過使用窄孔毛細管柱,在更短的時間內進行高分辨率分離,約系數(shù)2到3(與標準毛細管柱相比)。
電子壓力調節(jié)器
精確、快速切換需要高壓力穩(wěn)定性以及hPa范圍內的快速變化率。這是通過壓電執(zhí)行器在電子壓力調節(jié)器中實現(xiàn)的。
檢測器
微型 TCD(基于硅片技術)工作原理為連續(xù)測量被測載氣和組分的不同導熱性。
通過避免在加熱絲上催化影響,并保持恒定流量,可在無歪曲條件下進行測量。這可實現(xiàn)始終如一的嵌入管線檢測,即,無數(shù)量和質量上物質損失。
應用模塊
應用模塊含有實時注入和實時切換。模塊 D06、D08 和 D11 比模塊 D01、D02 和 D09 少一個分離柱。模塊 D06、D08 和 D11 比模塊 D01 和 D02 少一個檢測器。應用模塊適合下述組分的分離。但是,為具體客戶的實際測量任務選擇合適的應用模塊時,必須由我們的支持團隊進行相應的技術評估。
D01、D02 和 D08:
這些模塊含有分離柱,載氣中的濕氣可能損害它們的分離性能。因此,對于這些模塊,訂貨號 A5E00400116),集成在 MicroSAM 的支撐架上或作為單獨的部件提供。
應用模塊適合下述組分的分離。
| 檢測器 | 1 欄 | 檢測器 | 2 欄 | 檢測器 | 電路 | 3 欄 | 檢測器 |
D01 | | | | | | | | |
注入 | TCD | Sil5 C3, C4, C5, C6+ | TCD | PoraPLOT/Porabond Q CO2, C2, H2S, H2O | TCD | 在線 | 分子過濾器 H2, (Ar+O2), N2, C1, CO | TCD |
D02 | | | | | | | | |
注入 | TCD | Sil5 C5+ | TCD | SilicaPLOT C2, C3, C4 (飽和,不飽和), C5+ | TCD | 在線 | 分子過濾器 H2, (Ar+O2), N2, C1, CO | TCD |
D09 | | | | | | | | |
注入 | - | Sil5 非極性芳族和脂肪族烴 | TCD | Sil5 非極性芳族和脂肪族烴 | TCD | 在線 | Porabond Q 除分子過濾器組件的所有組件 | TCD |
應用模塊 D01、 D02 和 D09
| 檢測器 | 1 欄 | 檢測器 | 電路 | 2 欄 | 檢測器 |
D06 | | | | | | |
注入 | TCD | Sil5 非極性芳族和脂肪族烴 | TCD | 在線 | Sil5 非極性芳族和脂肪族烴 | TCD |
D08 | | | | | | |
注入 | TCD | Porabond Q 除分子過濾器組件的所有組件 | TCD | 在線 | 分子過濾器 H2, (Ar+O2), N2, C1, CO | TCD |
D11 | | | | | | |
注入 | TCD | RTX-5+RTX-200 非極性芳族和脂肪族烴和介質極性組分(例如,氯代硅烷) | TCD | 在線 | SilicaPLOT C2, C3, C4, C5, C6 (飽和,不飽和) | TCD |
應用模塊 D06、D08 和 D11
應用
可提供各種解決方案概念:
· 調整無方法開發(fā)(按要求)
· 工廠測試
應用模塊為標準化模塊。MicroSAM 的功能由于采用特定的載氣、確切設定的烘干爐溫度和載氣入口壓力,以及標準低校準氣,得到了充分保證。所測組分和切換功能(實時注入、反吹、切割)進行保存。
· 現(xiàn)場調試
所有應用模塊塊為標準化模塊,即,分析硬件進行規(guī)定,無法變更。調試期間在現(xiàn)場進行專門設置。
· 調節(jié)有方法開發(fā)
非標準化應用需要專門的方法開發(fā):
在現(xiàn)有技術規(guī)范和一種選定標定氣體或通過采用客戶試樣的基礎上提煉出一套解決方案。
技術規(guī)范
設計,外殼 | |
重量 | 15 kg |
防護等級 | IP65 (NEMA 4X) |
安裝 | |
安裝在 | 立柱、管道或墻壁上 |
距墻壁或下一個色譜儀的距離 | 300 mm (12") |
距天花板或地面的距離 | 200 mm (8") |
防爆 | ATEX 和 IEC Ex:II 2 G Ex d IIC T4 Gb Class I, Zone 1, Group IIB + H2 T4 Class I, Div 1, Group B, C, D T4 工廠密封 |
支架 | |
· 安裝部件,外形尺寸(D x H) | 380 x 110 mm |
· 氣體連接 | 8 |
· 氣體連接支,外形尺寸(D x H),右側支架,安裝在右角 | 146 x 110 mm |
電氣性能 | |
輔助電源 | 24 V DC (18.5 ... 30.2 V) |
功耗 | |
· 典型值 | 18 W |
· 值 | 60 W |
· 電氣安全 | IEC 61010 / DIN VDE 0411 |
EMC 抗擾度 | 符合標準 IEC 60801/DIN VDE 0843 |
· 對交流供電線進行干擾 | |
· 符合部分4(猝發(fā)) | 2 kV |
· 符合部分5(ms脈沖),線對線 | 1 kV |
· 符合部分5(ms脈沖),線對地 | 2 kV |
· 對信號線進行干擾 | |
· 符合部分4(猝發(fā)) | 1 kV |
· 抗靜電放電干擾 | |
· 符合部分2(靜電放電) | 8 kV |
· 現(xiàn)場抗擾度 | |
· 符合部分3和部分6 | 10 V / m |
· 噪聲抑制 | 符合CISPR 11 / EN 55011 / DIN VDE 0875限值等級 B |
· 熔斷器 | T2.5 A |
氣體進口條件 | |
容許樣品壓力 | 大氣壓力以上10 ?60 kPa |
試樣流量 | 20 … 100 ml/min |
試樣溫度 | 120°C |
固體組分 | < 0.1 mm |
氣候條件 | |
允許環(huán)境溫度 | - 20 ... 50 °C (取決于爐溫) |
允許的貯存/運輸溫度 | - 30 ... 70 °C |
允許的相對濕度 | 90% |
取樣和注入 | |
試樣流 | 3 |
標定試樣流 | 1 |
相 | 氣相 |
需要過濾 | 分離程度 99.99 % ,適合 <0.1μm 顆粒 |
與試樣相接觸部件的材質 | 不銹鋼、熔融石英、聚酰亞胺 |
注入 | "無閥" 實時注入 |
· 控制器 | 配有多功能隔膜閥 |
· 利用開關時間可調節(jié)注入體積 | 2 ... 50 µl |
· 工作溫度 | 165 °C |
烤箱 | |
數(shù)量/類型 | 1/等溫 |
用N2進行吹掃 | 可能 |
外形尺寸(DxH) | 160 x 10 mm |
加熱能量 | 20 W |
溫度范圍 | 60 … 155 °C |
溫度穩(wěn)定性 | ± 0.1 K (60 ... 155 °C) |
溫度準確度 | ± 3 K (60 ... 155 °C) |
保留時間變動/每 10 °C 環(huán)境溫度變化 | 約 0.3% |
加熱時間段從 30 ...100 °C | 10 minutes |
色譜柱和氣體 | |
色譜柱類型 | 毛細管柱 0.15 ... 0.25 mm/內部 |
分離柱開關 | 采用實時系統(tǒng)中反吹和切割的多維色譜法 |
多功能隔膜閥 | 用于注入和反吹 |
氣體連接 | Swagelok 1/8" |
壓力調節(jié)器 | 4單獨通道電子壓力調節(jié)器 |
隔膜閥控制電磁閥 | 2個常閉觸點,2個常開觸點 |
載氣 | H2, N2, He, Ar |
· 氣體純度(要求) | > 99.999 % (5.0) |
· 固體組分 | < 0.1 μm |
· 需要過濾 | 分離程度 99.99 % ,適合 0.1μm 顆粒 |
· 消耗量 | 10 ... 60 ml/min |
· 入口壓力 | 500 …700 kPa (g) 建議 600 kPa (g) 重要 運行需要保持連續(xù)的載氣供應 (載氣頻繁中斷對測試儀器的壽命及設備內部的壓力調節(jié)器均有消極影響)。 另外,強烈建議采用外部雙層壓力調節(jié)器調節(jié)載氣壓力。 |
儀表空氣 | 不需要 |
檢測器標定和性能數(shù)據(jù) | |
檢測器類型 | TCD,最多 8 個傳感器 |
環(huán)境溫度 | 可忽略 |
槽體積 | |
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