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青島華旗科技有限公司
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  • 設(shè)備及工廠生產(chǎn)自動(dòng)化_工業(yè)4.0

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:致力于設(shè)備及工廠生產(chǎn)自動(dòng)化:半導(dǎo)體分立器件、太陽(yáng)能電池、功能材料/磁性材料等行業(yè),為客戶提供生產(chǎn)自動(dòng)化(無(wú)人)解決方案

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:34:37 對(duì)比
  • 鏈?zhǔn)秸婵諣t

    產(chǎn)品信息工作方式:鏈帶/輥道,連續(xù)/半連續(xù)/周期工作方式

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:33:04 對(duì)比
  • 水平管式爐(手套箱)

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:主要用于高性能釤鈷、釹鐵硼等磁性材料、功能材料的精密真空氣氛燒結(jié)等工藝

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:31:40 對(duì)比
  • 小旋轉(zhuǎn)氣氛爐

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:主要用于高性能稀土永磁材料如釹鐵硼等磁性材料精細(xì)制粉工藝,,以及高性能磁性材料和功能性材料的氮化處理工藝等

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:30:07 對(duì)比
  • 滲鏑爐

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:主要用于高性能釹鐵硼等磁性材料的高精密擴(kuò)散滲鏑、滲鋱等工藝,以及高性能磁性材料和功能性材料的氮化處理工藝等

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:28:33 對(duì)比
  • 水平雙室燒結(jié)爐

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:主要用于高性能釤鈷、釹鐵硼等磁性材料、功能材料的精密真空氣氛燒結(jié)、退火(快冷)等工藝

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:27:01 對(duì)比
  • 小雙室

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:主要用于高性能釹鐵硼等磁性材料的高精密擴(kuò)散滲鏑、滲鋱等工藝,以及高性能釤鈷等磁性材料的精密真空氣氛燒結(jié)、退火(含快冷)等工藝

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:25:58 對(duì)比
  • 雙室爐(釤鈷)

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:主要用于高性能釹鐵硼等磁性材料的高精密擴(kuò)散滲鏑、滲鋱等工藝,以及高性能釤鈷等磁性材料的精密真空氣氛燒結(jié)、退火(含快冷)等工藝

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:24:36 對(duì)比
  • 垂直燒結(jié)爐

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:主要用于高性能釤鈷、釹鐵硼等磁性材料、功能材料的精密真空氣氛燒結(jié)等工藝

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:23:13 對(duì)比
  • 真空燒結(jié)爐2

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:主要用于高性能釹鐵硼等磁性材料的高精密擴(kuò)散滲鏑、滲鋱等工藝,以及高性能釤鈷等磁性材料的精密真空氣氛燒結(jié)、退火(含快冷)等工藝

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:22:01 對(duì)比
  • 鏈帶爐

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:應(yīng)用于半導(dǎo)體功率器件、電力電子器件、二極管、精密材料等的燒結(jié)、退火、燒封、釬焊等工藝

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:20:07 對(duì)比
  • 真空燒封爐

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:主要用于半導(dǎo)體功率器件、電力電子器件、精密材料、高性能新材料(如陶瓷、陶瓷金屬化等)的真空/氣氛熱處理(如燒結(jié)、封裝、退火、時(shí)效等)等工藝

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:18:54 對(duì)比
  • 真空爐(內(nèi)加熱)

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:主要用于半導(dǎo)體功率器件、電力電子器件、精密材料、高性能新材料(如陶瓷、陶瓷金屬化等)的真空/氣氛熱處理(如燒結(jié)、封裝、退火、時(shí)效等)等工藝

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:17:31 對(duì)比
  • 高壓晶體爐

    產(chǎn)品信息產(chǎn)品性能:◆溫度:500~2500℃

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:16:08 對(duì)比
  • 石墨烯CVD爐

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:水平LPCVD是高質(zhì)量大批量大尺寸石墨烯CVD法生長(zhǎng)專用設(shè)備,多種工藝氣體、生長(zhǎng)壓力、工藝溫度、工藝過(guò)程計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:14:55 對(duì)比
  • HVPE-垂直

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:垂直HVPE設(shè)備用于在藍(lán)寶石、碳化硅等襯底上外延生長(zhǎng)GaN薄膜、Ga2O3薄膜(導(dǎo)模法)、厚膜及晶體生長(zhǎng),及AlN等外延生長(zhǎng)

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:13:11 對(duì)比
  • HVPE-水平

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:水平HVPE設(shè)備用于在藍(lán)寶石、碳化硅等襯底上外延生長(zhǎng)GaN薄膜、Ga2O3薄膜(導(dǎo)模法)、厚膜及晶體生長(zhǎng),及AlN等外延生長(zhǎng)

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:11:38 對(duì)比
  • 快速退火RTP-2

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:09:34 對(duì)比
  • 快速退火RTP-1

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:08:01 對(duì)比
  • 高溫退火爐(2000)

    產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介:用于246SiC或GaN的高溫退火、活化等的特殊工藝

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/25 8:06:29 對(duì)比

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